本發(fā)明涉及成膜裝置以及成膜方法。

背景技術(shù)：

1、已知有對基板蒸鍍以蒸鍍物質(zhì)來進(jìn)行成膜的技術(shù)。例如，在專利文獻(xiàn)1中公開了一邊使蒸鍍源移動(dòng)一邊向基板放出蒸鍍物質(zhì)來進(jìn)行成膜的技術(shù)。有時(shí)通過一邊使蒸鍍源移動(dòng)一邊成膜，能夠降低因蒸鍍源的結(jié)構(gòu)或個(gè)體差異所導(dǎo)致的不均，能夠提高基板上的膜厚分布的均勻性。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2004－307880號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、但是，以往的成膜裝置在成膜的均勻性的方面存在改善的余地。

3、本發(fā)明提供一種能夠提高成膜的均勻性的技術(shù)。

4、用于解決課題的方案

5、根據(jù)本發(fā)明，提供一種成膜裝置，其特征在于，所述成膜裝置具備：

6、第一蒸鍍部件，其向基板放出第一蒸鍍物質(zhì)；

7、旋轉(zhuǎn)部件，其具備搭載所述第一蒸鍍部件的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使該旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)；以及

8、移動(dòng)部件，其使所述旋轉(zhuǎn)部件在沿著基板的成膜面的方向上移動(dòng)。

9、發(fā)明的效果

10、根據(jù)本發(fā)明，可提供能夠提高成膜的均勻性的技術(shù)。

技術(shù)特征：

1.一種成膜裝置，其特征在于，所述成膜裝置具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

10.一種成膜方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
成膜裝置具備：第一蒸鍍部件，其向基板放出第一蒸鍍物質(zhì)；旋轉(zhuǎn)部件，其具備搭載所述第一蒸鍍部件的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使該旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)；以及移動(dòng)部件，其使所述旋轉(zhuǎn)部件在沿著基板的成膜面的方向上移動(dòng)。

技術(shù)研發(fā)人員：市原正浩
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能特機(jī)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/6/26