技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種鞋墊。

背景技術(shù)：

鞋墊放置在鞋內(nèi)，可以對(duì)足弓起到額外的支撐，給穿著者提供更大的舒適性?，F(xiàn)有的鞋墊設(shè)計(jì)通常只是針對(duì)正常足設(shè)計(jì)的，并沒有考慮到一些特殊足型的需要。例如，外翻足，由于足底的足弓內(nèi)側(cè)高度降落，使足底呈扁平狀，普通的鞋墊無法對(duì)這種足起到良好的支撐作用，無法緩解足部的疲勞和疼痛。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種鞋墊，其可以為外翻足提供更好的支撐，能夠緩解外翻足的疲勞和疼痛。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：構(gòu)造一種鞋墊，所述鞋墊具有底面和供腳踩踏的上表面，所述上表面包括后跟區(qū)域和用于支撐足弓的足弓支撐區(qū)域，其特征在于，所述后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度高于外側(cè)高度，所述足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線超出中平面，所述中平面為與鞋墊長度方向平行的豎直平面，所述中平面經(jīng)過所述后跟區(qū)域的寬度的1/2處。

在本發(fā)明所述的鞋墊中，所述足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線的頂點(diǎn)與所述中平面的距離為0～8mm。

在本發(fā)明所述的鞋墊中，所述后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度比外側(cè)高度高0～8mm。

在本發(fā)明所述的鞋墊中，所述后跟區(qū)域與底面的夾角為0～10度。

本發(fā)明還提供了另一種鞋墊，所述鞋墊具有底面和供腳踩踏的上表面，所述上表面包括后跟區(qū)域和用于支撐足弓的足弓支撐區(qū)域，每一長度尺碼的鞋墊包括適于正常足的標(biāo)準(zhǔn)鞋墊C墊和適于外翻足的非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊，所述標(biāo)準(zhǔn)鞋墊和非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的后跟區(qū)域的寬度相同；

所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度高于外側(cè)高度，所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線超出中平面，所述中平面為與鞋墊長度方向平行的豎直平面，所述中平面經(jīng)后跟區(qū)域的寬度的1/2處。

在本發(fā)明所述的另一種鞋墊中，所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊包括B墊，

設(shè)：所述B墊的后跟區(qū)域的寬度為HW，所述B墊的后跟區(qū)域與底面的夾角為BHA，所述B墊的后跟區(qū)域的厚度為BHT，所述BHT為B墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)和外側(cè)的高度差，所述B墊的足弓支撐區(qū)域的加闊度為BAW，所述BAW為B墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓頂點(diǎn)與所述中平面之間的距離，所述C墊的足弓支撐區(qū)域的加闊度為CAW，所述BAW為B墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓頂點(diǎn)與所述中平面之間的距離；

則上述采參數(shù)滿足以下關(guān)系：BHT＝HW×tan(BHA)，BAW＝CAW+BHT；

所述BHA為0～5度。

在本發(fā)明所述的另一種鞋墊中，所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊還包括A墊，

設(shè)：所述A墊的后跟區(qū)域的寬度為HW，所述A墊的后跟區(qū)域與底面的夾角為AHA，所述A墊的后跟區(qū)域的厚度為AHT，所述AHT為A墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)和外側(cè)的高度差，所述A墊的足弓支撐區(qū)域的加闊度為AAW，所述AAW為A墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓頂點(diǎn)與所述中平面之間的距離；

則上述采參數(shù)滿足如下關(guān)系：AHT＝HW×tan(AHA)，AAW＝CAW+BHT×2；

所述AHA為5～10度。

在本發(fā)明所述的另一種鞋墊中，設(shè)所述C墊的足弓支撐區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度為CAH，B墊的足弓支撐區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度為BAH，A墊的足弓支撐區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度為AAH，則上述參數(shù)滿足如下關(guān)系：BAH＝CAH+BHT，AAH＝CAH+BHT×2。

在本發(fā)明所述的另一種鞋墊中，所述C墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度等于外側(cè)高度，所述C墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線的頂點(diǎn)位于所述中平面上。

在本發(fā)明所述的另一種鞋墊中，所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線的頂點(diǎn)與所述中平面的距離為0～8mm；所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度比外側(cè)高度高0～8mm；所述非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的所述后跟區(qū)域與底面的夾角為0～10度。

實(shí)施本發(fā)明的鞋墊，具有以下有益效果：由于本發(fā)明的鞋底的后跟區(qū)域內(nèi)側(cè)高度高于外側(cè)高度，使后跟具有一定斜度，并且足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓超出中平面，可以將外翻足的內(nèi)側(cè)抬高，并擴(kuò)大了足弓支撐區(qū)域，可以將外翻足的足弓調(diào)整至較正常狀態(tài)，從而減少疲勞以及疼痛。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中：

圖1是本發(fā)明的鞋墊的優(yōu)選實(shí)施例的主視圖；

圖2是本發(fā)明的鞋墊的優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)側(cè)視圖；

圖3是圖1中Ⅰ-Ⅰ面剖視圖；

圖4是圖1中Ⅱ-Ⅱ面剖視圖。

具體實(shí)施方式

為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式。

如圖1和圖2所示，為本發(fā)明的鞋墊的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，該鞋墊具有底面1和供腳踩踏的上表面2，其中上表面包括后跟區(qū)域21和用于支撐足弓的足弓支撐區(qū)域22，其中足弓支撐區(qū)域22為呈弧面狀，可以對(duì)足弓起到支撐作用。參看圖1，其中虛線所示的輪廓線101為底面外輪廓，最外圈的輪廓線201為上表面2的外輪廓，輪廓線221為足弓支撐區(qū)域22的外側(cè)輪廓。

參看圖3和圖4，為了能夠?qū)ν夥闾峁┝己玫闹?，改善鞋墊的舒適程度，后跟區(qū)域21的內(nèi)側(cè)高度高于外側(cè)高度，優(yōu)選的，后跟區(qū)域21具有一定斜度，也即后跟區(qū)域21與底面1具有一定的夾角，鞋墊的后跟區(qū)域21內(nèi)側(cè)高外側(cè)低，這樣可以抬高足的內(nèi)側(cè)，把足后部外翻控制至接近垂直，可以對(duì)外翻足起到一定的矯正作用。

為了對(duì)外翻足的較為扁平的足弓提供良好的承托，足弓支撐區(qū)域22在鞋墊的寬度方向上進(jìn)行了加闊處理，使足弓支撐區(qū)域22的外側(cè)輪廓線221超出中平面3，其中，中平面3為與鞋墊長度方向平行的豎直平面，中平面3經(jīng)過后跟區(qū)域21的寬度的1/2處。

參看圖1至4，圖中的參數(shù)如下：

鞋墊長度L：鞋墊后沿到前沿的距離為鞋墊的長度；

后跟區(qū)域長度HL：由鞋墊后沿向前至長度的1/8處，也即HL＝L/8；

后跟區(qū)域?qū)挾菻W：距鞋墊后沿HL處的截面的底邊寬度；

足弓長度AL：足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓的頂點(diǎn)距鞋墊后沿的距離，也即足弓支撐區(qū)域的外輪廓上處于最外側(cè)的點(diǎn)；

足弓加闊度AW：足弓支撐區(qū)域的外輪廓的頂點(diǎn)距離中平面3的距離；

后跟區(qū)域與底面的夾角HA；

后跟區(qū)域的厚度HT：后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)與外側(cè)的高度差；

足弓支撐區(qū)域的高度AH：足弓支撐區(qū)域22的內(nèi)側(cè)的高度。

在本實(shí)施例中，后跟區(qū)域21與底面1的夾角，也即HA，可以為0～10度，足外翻越嚴(yán)重，后跟區(qū)域21與底面1夾角越大；后跟區(qū)域21的內(nèi)側(cè)高度與外側(cè)高度的差值，也即后跟區(qū)域厚度HT，為0～8mm，足外翻越嚴(yán)重，后跟區(qū)域21的內(nèi)側(cè)高度比外側(cè)高度的差值越大；足弓支撐區(qū)域22的外側(cè)輪廓線221的頂點(diǎn)與中平面的距離，也及足弓加闊度AW，為0～8mm，足弓扁平化越嚴(yán)重，則足弓加闊度越大。需要理解的是，本發(fā)明的鞋墊的參數(shù)，并不局限與上述具體數(shù)值，可以根據(jù)實(shí)際情況，做出相應(yīng)的改變。

為了方便選擇鞋墊，可以針對(duì)每一尺碼的鞋墊設(shè)計(jì)適于正常足的標(biāo)準(zhǔn)鞋墊和適于外翻足的非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊，還可以針對(duì)不同程度外翻的外翻足設(shè)計(jì)兩種或兩種以上的非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊，以方便選擇。非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度高于外側(cè)高度，非標(biāo)準(zhǔn)鞋墊的足弓支撐區(qū)域的外側(cè)輪廓線超出中平面。

下面以歐碼31碼為例說明，同一長度尺碼的鞋墊設(shè)計(jì)不同的鞋墊以滿足不同足型的需要。

該歐碼31碼鞋墊包括C墊、B墊和A墊三種規(guī)格，C墊、B墊和A墊的長度L相同，后跟區(qū)域的寬度HW也相同，HW＝43.5mm。

其中C墊參數(shù)如下：

足弓支撐區(qū)域的高度CAH＝14.5mm，

足弓加闊度CAW＝0，也即足弓支撐區(qū)域22的外側(cè)輪廓221的頂點(diǎn)位于中平面3上，

后跟區(qū)域與底面的夾角CHA＝0，也即后跟區(qū)域的內(nèi)側(cè)高度和外側(cè)高度相同；

后跟區(qū)域的厚度CHT＝HW×tan(CHA)＝43.5×tan(0)＝0mm；

B墊的參數(shù)為：

后跟區(qū)域與底面夾角BHA＝4°，

后跟區(qū)域的厚度BHT＝HW×tan(BHA)＝43.5Xtan(4°)＝3mm，

足弓支撐區(qū)域的高度BAH＝CAH+BHT＝14.5+3＝17.5mm，

足弓加闊度BAW＝CAW+BHT＝0+3＝3mm；

A墊的參數(shù)為：

后跟區(qū)域與底面夾角AHA＝6°，

后跟區(qū)域的厚度AHT＝HW×tan(AHA)＝43.5Xtan(6°)＝4.5mm，

足弓支撐區(qū)域的高度AAH＝CAH+BHT×2＝14.5+3x2＝20.5mm，

足弓加闊度AAW＝CAW+BHTX2＝0+3×2＝6mm。

以上C墊、B墊、A墊的參數(shù)相關(guān)的關(guān)系公式是根據(jù)大量的統(tǒng)計(jì)擬合的，是作為優(yōu)選采用的。C墊適合正常足，B墊適合輕度外翻的外翻足，A墊適合外翻程度嚴(yán)重的外翻足。

C墊、B墊、A墊的具體參數(shù)并不局限于上述具體參數(shù)，上述具體參數(shù)僅是示意性的，而非限制性的。B墊的后跟區(qū)域與底面的夾角BHA可以為0～5度，A墊的后跟區(qū)域與底面的夾角AHA可以為5～10度。

將同一長度尺碼的鞋墊設(shè)計(jì)成C墊和B墊，或者設(shè)計(jì)呈C墊、B墊和A墊，可以方便使用者根據(jù)自己的足型選擇合適的鞋墊，以提高鞋墊的舒適程度，緩解足部的不適、疲勞以及疼痛。

上面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了描述，但是本發(fā)明并不局限于上述的具體實(shí)施方式，上述的具體實(shí)施方式僅僅是示意性的，而不是限制性的，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本發(fā)明的啟示下，在不脫離本發(fā)明宗旨和權(quán)利要求所保護(hù)的范圍情況下，還可做出很多形式，這些均屬于本發(fā)明的保護(hù)之內(nèi)。